Réalisation de guides d'ondes en technologie microélectronique dans des couches épaisses de Silicium Polycristallin.

Date : 2004

Type : ter

Formation : M1 EEA

Auteur(s) : Lois Ledanvic

Mots Clefs

Resumé

La fabrication de guides d'ondes utilise en technologie microélec. toutes les différentes méthodes permettant l'obtention de poutres régulières par gravure plasma sur des couches de Si. Polycristallin. Les principaux process intervenant sont l'enduction de résine négative (SU8-2), les étapes de photolithogravure (masquage, recuits, insolation, développement, gravure sèche, délaquage de la résine...). Le projet a principalement pour but de fiabiliser les différents process mis en place pour la fabrication de ces guides d'ondes. La prise en compte des contraintes de type technologiques telle que la gravure régulière sur du Si poly. ou l'obtention d'un rendement de 100% sur chaque process, savère être l'enjeu du projet. Ainsi, les mesures de paramètres adéquats et les réalisations de tests significatifs (influence du temps d'insolation, résistance de la résine à la gravure plasma...), permettront d'atteindre l'objectif de "zéro défaut" indispensable à la bonne validation du procédé ainsi qu'au rendement du guide.

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