Réalisation de Diode P+N

Date : 2009

Type : projet_lic

Formation : L3ET

Auteur(s) : Guillaume Besnard

Mots Clefs

Resumé

L’objectif du projet est de suivre et de faire la réalisation d’une photodiode sur toutes les étapes du processus : fabrication par semi-conducteurs. Nous avons donc pour but de détailler la structure de la diode, d’en définir ses caractéristiques et d’y apporter des propositions d’amélioration sur son rendement. Pour la partie structure, nous devons mettre en place les différentes coupes représentant la diode dans les différentes étapes de réalisation : couches de matériaux, étapes de masquage/isolation, étapes de gravure/diffusion. Il est surtout intéressant de présenter l’environnement dans lequel se fait la réalisation : salles blanches, matériel spécialisé. La manipulation permet de faire ressortir les grandes caractéristiques d’une photodiode et d’en expliquer leur provenance. Après ce relevé, l’étude a pour intérêt de montrer les améliorations possibles : matériaux utilisés, méthodes de gravure, impact de la précision.